【光學鍍膜發展史，您知多少？】

1892年：英國泰勒(H.D.Toylor杰出的Cook，Triplet鏡頭設計師)發現，把燒過的望遠鏡物鏡表面經風化出現紫色，和新的透鏡比較，發現能通過更多的光線。受弱酸侵蝕的玻璃表現存在折射率低的薄膜，能降低玻璃表面的反射率。

這個透鏡燃燒的新發現，使人們知道了膜層作用，并產生鍍膜技術，以后，利用工人的弱酸化學作用，從實驗室產生表面的弱酸凝膠層，到了1930年左右，技術有了明顯進展。

1931年：德國卡爾·蔡司公司發表優良的大孔徑鏡頭Sonnar F2.0，鏡頭的反射面很少，由獨特的3組6片透鏡構成，有待開發鍍膜技術。

1935年：德國卡爾·蔡司公司發明了防反射膜層處理技術，蔡避開的A.Smakula在真空中加熱蒸發低折射率氟化物薄膜，誕生了防反射薄膜處理方法。

1936處：美國加利福尼亞工業大學的J.D.Strong把玻璃置于真空中，加熱蒸發有增透效果的氟化鈣(CaF2)，成功制成了人工防反射薄膜。

由于 上述原因，2個透鏡組合膠合透鏡可以分離，增加透鏡設計的自由度。

1938年：美國依斯曼，柯達公司在HECTA鏡頭上完成鍍膜工藝。

1939-1943年：卡爾·蔡司公司成功實現了2層和3層增膜系。

1945年：德國徠茲公司，在徠卡的標準鏡頭中首先使用鍍膜技術，從SUMMITAR50mmF2鏡頭開始(該鏡頭1939年推出)，鏡片實施鍍膜。

1945年：在德國法蘭克·海德克公司發明羅萊Automat(4型)相機的75mm F3.5鏡頭中，卡爾·蔡司·耶拿Tessar、蔡司奧普托·Tessar及施耐特Xenar3款鏡頭成為羅萊*早鍍膜鏡頭。

1946年：千代田光學精工(現在美能達公司)在半幅Spring照相機的Minolta Seml A鏡頭上首先使用品紅膜層。

美能達SEMI是日本*早有鍍膜鏡頭的照相機(JCII的歷史認定照相機)，以后各公司相繼積極引入鍍膜技術，在商品目錄記錄中“有鍍膜”，給人印象是“光亮清晰鏡頭”。

1964-1967年：在攝影器材以外的用途領域，例如測量儀器盤和電視攝影像機鏡頭等方面，我層鍍膜其特征是幾乎能全部消除玻璃表面的反射，這是活用后有實效的光學技術之一。

1964年：當年10月在東京舉行*******上，室內比賽轉播需要更明亮畫面，富士寫真光機公司受NHK委托開發了電視用鏡頭的多層鍍膜技術，實現了鏡片的電子束鍍膜EBC(Electron Beam Coating)。

在真空鍍膜時，使用高溶點的抗熱式的蒸發物質，用電子槍溶融方法，完成由日本技術制成*多達11層的多層膜系，`1971年12月發表的8mm照相機，富士卡single8E8000的EBC富士儂8-64mm F1.8鏡頭和1972年9月推出攝影用的35mm單反相機，富士卡ST801的可換鏡頭，是采用了EBC技術的富士儂鏡頭。

1970年：西德科隆博覽會上(photokina)，各照相機公司開發的多層鍍膜技術相繼登場，采用此新技術的鏡頭有：旭光學工業的賓得用可換鏡頭、日本光學工業的尼康F用可換鏡頭、佳能的新產品F1用可換鏡頭等。

1971年：可以說是多層鍍膜的元年，(**推出**年)，各個照相機款式工廠對以往的可換鏡頭及新開發的可換鏡頭，各自采用多層鍍膜。多層鍍膜的優越性已眾所周知，加工成本高也引起關注，但照相機鏡頭使用多層鍍膜已大勢所趨，研究考慮的是更優良的多層鍍膜技術實用化。

1972年：西德卡爾·蔡司公司在科隆博覽會推出一系列引入多層鍍膜的蔡司鏡頭。在出售的鏡頭上使用“T*”標記，這就是杰出的有紅色標記“T*”鏡頭。

不管是照相機制造廠，還是鏡頭專業廠，都力爭采用多層鍍膜技術。其結果增加了鏡頭設計的自由度，出現了由復雜的透鏡構成各種廣角鏡頭、變焦鏡頭等系列產品。

1994年起：各公司均引入多層鍍膜，重新評價如何提高像質。另外也積極引入非球面透鏡，超 過10組的很多片透鏡組成的高倍變焦鏡頭變得易于實現。

上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業研發生產光學儀器及其零配件?的高科技企業，公司成立２００５年，專業的光電鍍膜公司，公司產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發和加工；光學透鏡、反射鏡、棱鏡等光學鍍膜產品的開發和生產，為全球客戶提供上等的產品和服務。

采用德國薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴格工藝標準的閉環式流程技術制備體系，能夠制備各種超高性能光學薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應用領域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫用激光器、紅外制導、面部識別、VR/AR應用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框等。